现有方法多在刚性无机基底上制备MOF膜。为突破膜放大制备难度大、膜组件加工制作灵活性差的技术瓶颈，赵之平团队制备出了一种高柔性MOF纳米片（MOF-NS）膜。
为解决MOF层与聚合物基底之间的表界面结合问题，研究团队将ZIF-8晶种共混到聚合物铸膜液中，并采用非溶剂致相分离（NIPS）法，巧妙制备了在聚合物基底内嵌入“芽状”晶种的聚偏氟乙烯膜。嵌入聚合物基底的“芽状”晶种不仅成为MOF纳米片与聚合物连接的“锚点”，其独特的花瓣状片结构也为纳米片生长奠定了基础。以此为基底，通过诱导MOF限域生长，团队调控制备出了完整蜂窝状MOF纳米片膜。通过X射线衍射和蒙特卡洛分子模拟方法，解析了MOF纳米片的晶体结构及其内部传质通道，其拓扑结构以厚度为0.525纳米的[Zn2（MeIm）4]n为网格状平面，包含0.435纳米的亚纳米级层间通道，揭示ZIF-8晶种在NIPS法成膜过程中发生了晶格畸变。
在电子显微镜下，通过调节观测区域的电子束轰击密度，首次捕捉到MOF纳米片的可逆柔性形变，纳米片厚度约13纳米。MOF纳米片在透射电镜下展现出不同于ZIF-8的良好晶格结构。蜂窝状MOF纳米片的片层结构及其内部连续通道，使其在渗透汽化过程中展现了超高渗透性。
MOF纳米片膜经聚二甲基硅氧烷溶液滴涂改性，形成具有蜂窝状结构的PDMS涂层，不仅修复了MOF纳米片间的分子尺度缺陷，同时实现了膜表面特性从超亲水到超疏水的转变，构建了兼具超疏水表面特性和膜内MOF-NS快速分子扩散通道的双功能膜。
